產(chǎn)品型號(hào)：GMD2000

廠商性質(zhì)：生產(chǎn)廠家

所在地：上海

更新時(shí)間：2024-06-12

產(chǎn)品簡(jiǎn)介：

石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼。

一、關(guān)鍵詞搜索

石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī)，石墨烯復(fù)合材料研磨分散機(jī)，納米硅研磨分散機(jī)，石墨烯復(fù)合漿料研磨分散機(jī)，德國(guó)進(jìn)口高剪切研磨分散機(jī)，高轉(zhuǎn)速研磨分散機(jī)，膠體磨升級(jí)款研磨機(jī)

二、研磨分散機(jī)的設(shè)計(jì)

SGN研磨分散機(jī)設(shè)計(jì)*，能夠延長(zhǎng)易損件的使用時(shí)間，因此尤其適合高硬度和高純度物料的粉碎。可以一機(jī)多用，也可以單獨(dú)使用，且粉碎粒度范圍廣，成品粒徑可以進(jìn)行調(diào)整。

三、石墨烯的簡(jiǎn)介

石墨烯自身的間內(nèi)躍遷及等離子體振蕩帶來(lái)的*光學(xué)特性，用于紅外光探測(cè)有著突出的優(yōu)勢(shì)。但也存在著明顯的劣勢(shì)：本征石墨烯自身由于光吸收率低、缺乏光增益機(jī)制，導(dǎo)致石墨烯探測(cè)器的光響應(yīng)率較低；石墨烯自身的光生載流子壽命短，僅皮秒左右，導(dǎo)致光生載流子難以有效收集，也嚴(yán)重影響探測(cè)器的光響應(yīng)率，石墨烯探測(cè)器的低響應(yīng)率無(wú)法滿(mǎn)足實(shí)際應(yīng)用的需要。目前，通過(guò)對(duì)石墨烯進(jìn)行量子點(diǎn)修飾、構(gòu)筑 PN 結(jié)、分子或金屬摻雜及尺寸量子化等方式打開(kāi)石墨烯帶隙、石墨烯與等離子體納米結(jié)構(gòu)結(jié)合、石墨烯與微腔或硅波導(dǎo)集成等多種方法，可以不同程度地提高石墨烯探測(cè)器的光響應(yīng)率，以達(dá)到或接近實(shí)際應(yīng)用的需要。

由于鋰離子電池具有高容量、無(wú)記憶效應(yīng)、快速可逆充放電、高庫(kù)倫效率等優(yōu)點(diǎn)，其已在便攜式電子產(chǎn)品如shou機(jī)、筆記本電腦、數(shù)碼相機(jī)等中得到廣泛應(yīng)用。然而再近二十年來(lái)，人們?cè)俅笕萘夸囯x子二次電池的研究商進(jìn)展緩慢。為滿(mǎn)足對(duì)高容量鋰離子二次電池的需求，開(kāi)發(fā)高容量、低成本的新型電極材料具有很高的研究?jī)r(jià)值。

四、硅石的簡(jiǎn)介

硅石一種理想的鋰離子電池負(fù)極材料，其具有很高的理論儲(chǔ)鋰容量以及較低的儲(chǔ)理點(diǎn)位。而在充放電過(guò)程中，硅極材料的體積效應(yīng)使得該材料容易粉化，進(jìn)入從集流體上剝落，從而導(dǎo)致容量迅速衰減。而且，硅基材料的較差的循環(huán)穩(wěn)定性大大限制了其應(yīng)用。

石墨烯石油SP2雜化碳原子再二維平面以六角網(wǎng)格形式排列形成的準(zhǔn)二維材料。因其柔性結(jié)構(gòu)、高的縱橫比、優(yōu)異的導(dǎo)電性和化學(xué)穩(wěn)定性。

五、研磨分散機(jī)的工藝

上海思峻的研磨分散機(jī)特別適合于需要研磨分散均質(zhì)一步到位的物料。研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu)，精密的零部件配合運(yùn)轉(zhuǎn)平穩(wěn)，運(yùn)行噪音在73DB以下。同時(shí)采用德國(guó)博格曼雙端面機(jī)械密封，并通冷媒對(duì)密封部分進(jìn)行冷卻，把泄露概率降到低，保證機(jī)器連續(xù)24小時(shí)不停機(jī)運(yùn)行。簡(jiǎn)單的說(shuō)就是將SGN/思峻膠體磨進(jìn)行進(jìn)一步的改良，將單一的膠體磨磨頭模塊，改良成兩級(jí)模塊，加入了一級(jí)分散盤(pán)。可根據(jù)物料要求進(jìn)行更換（我們提供了2P，2G，4M，6F，8SF等五種乳化頭供客戶(hù)選擇） SGN研磨分散機(jī)可以高速研磨，分散，乳化，均質(zhì)等功能，設(shè)備轉(zhuǎn)速可達(dá)14000rpm，是目前普通設(shè)備轉(zhuǎn)速的4-5倍。

GMD2000系列研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)：研磨式分散機(jī)是由錐體磨,分散機(jī)組合而成的高科技產(chǎn)品。

第yi級(jí)由具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

第二級(jí)由轉(zhuǎn)定子組成。分散頭的設(shè)計(jì)也很好地滿(mǎn)足不同粘度的物質(zhì)以及顆粒粒徑的需要。在線式的定子和轉(zhuǎn)子（乳化頭）和批次式機(jī)器的工作頭設(shè)計(jì)的不同主要是因?yàn)樵趯?duì)輸送性的要求方面，特別要引起注意的是：在粗精度、中等精度、細(xì)精度和其他一些工作頭類(lèi)型之間的區(qū)別不光是轉(zhuǎn)子齒的排列，還有一個(gè)很重要的區(qū)別是不同工作頭的幾何學(xué)特征不一樣。狹槽數(shù)、狹槽寬度以及其他幾何學(xué)特征都能改變定子和轉(zhuǎn)子工作頭的不同功能。根據(jù)以往的慣例，依據(jù)以前的經(jīng)驗(yàn)工作頭來(lái)滿(mǎn)足一個(gè)具體的應(yīng)用。在大多數(shù)情況下，機(jī)器的構(gòu)造是和具體應(yīng)用相匹配的，因而它對(duì)制造出zui終產(chǎn)品是很重要。當(dāng)不確定一種工作頭的構(gòu)造是否滿(mǎn)足預(yù)期的應(yīng)用。

六、研磨分散機(jī)的結(jié)構(gòu)

GMD2000 石墨烯納米硅復(fù)合研磨分散機(jī)為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力，可以處理高固含量有一定粘稠度物料，GM2000設(shè)計(jì)了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子，進(jìn)行物料的推動(dòng)輸送；所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼，機(jī)座采用304不銹鋼；特殊要求如：硬度較大物料，對(duì)鐵雜質(zhì)要求嚴(yán)苛的物料，管道有一定壓力并且需不間斷運(yùn)轉(zhuǎn)的工況，可選磨頭噴涂碳化物或陶瓷；GMD2000改良型膠體磨腔體外有夾套設(shè)計(jì)，可通冷卻或者升溫介質(zhì)。

七、研磨分散機(jī)的特點(diǎn)

1、線速度很高，剪切間隙非常小，當(dāng)物料經(jīng)過(guò)的時(shí)候，形成的摩擦力就比較劇烈，結(jié)果就是通常所說(shuō)的濕磨

2、定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形，具有精細(xì)度遞升的三級(jí)鋸齒突起和凹槽。

3、定子可以無(wú)限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離

4、在增強(qiáng)的流體湍流下，凹槽在每級(jí)都可以改變方向。

5、高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料，可以滿(mǎn)足不同行業(yè)的多種要求。

設(shè)備其它參數(shù):

設(shè)備等級(jí)：化工級(jí)、衛(wèi)生I級(jí)、衛(wèi)生II級(jí)、無(wú)菌級(jí)
電機(jī)形式：普通馬達(dá)、變頻調(diào)速馬達(dá)、防爆馬達(dá)、變頻防爆馬達(dá)、
電源選擇： 380V/50HZ、220V/60HZ、440V/50HZ
電機(jī)選配件： PTC 熱保護(hù)、降噪型
研磨分散機(jī)材質(zhì)：SUS304 、SUS316L 、SUS316Ti,氧化鋯陶瓷
研磨分散機(jī)選配：儲(chǔ)液罐、排污閥、變頻器、電控箱、移動(dòng)小車(chē)
研磨分散機(jī)表面處理：拋光、耐磨處理
進(jìn)出口聯(lián)結(jié)形式：法蘭、螺口、夾箍
研磨分散機(jī)選配容器：本設(shè)備適合于各種不同大小的容器

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