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  • GMSD2000聚氨酯原位聚合的水性導(dǎo)電涂料研磨分散機
    聚氨酯原位聚合的水性導(dǎo)電涂料研磨分散機

    GMD2000聚氨酯原位聚合的水性導(dǎo)電涂料研磨分散機為立式分體結(jié)構(gòu),有一定輸送能力,可以處理高固含量有一定粘稠度物料,GM2000設(shè)計了符合漿液流體特性的特殊轉(zhuǎn)子,進行物料的推動輸送;所有與物料接觸部位均為316L不銹鋼,機座采用304不銹鋼。

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  • GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機價格
    硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機價格

    GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機價格系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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  • 硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機
    硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機

    GMD2000硫酸頭孢喹諾混懸液研磨分散機系列的線速度很高,剪切間隙非常小,這樣當(dāng)物料經(jīng)過的時候,形成的摩擦力就比較劇烈,結(jié)果就是通常所說的濕磨。定轉(zhuǎn)子被制成圓椎形,具有精細度遞升的三級鋸齒突起和凹槽。定子可以無限制的被調(diào)整到所需要的與轉(zhuǎn)子之間的距離。在增強的流體湍流下,凹槽在每級都可以改變方向。高質(zhì)量的表面拋光和結(jié)構(gòu)材料,可以滿足不同行業(yè)的多種要求。

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  • GMD2000/4三級納米碳酸鈣研磨機
    三級納米碳酸鈣研磨機

    三級納米碳酸鈣研磨機是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

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  • GMD2000/4三級納米碳酸鈣分散機
    三級納米碳酸鈣分散機

    三級納米碳酸鈣分散機是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變跟為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。膠體磨可根據(jù)物料要求進行更換(我們提供了2P,2G,4M,6F,8SF等五種乳化頭供客戶選擇)

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  • GMD2000/4納米研磨機分散機
    納米研磨機分散機

    GMD2000系列SGN納米研磨機分散機是SGN(上海)公司經(jīng)過研究剛剛研發(fā)出來的一款新型產(chǎn)品,該機特別適合于需要研磨分散乳化均質(zhì)一步到位的物料。我們將三級高剪切均質(zhì)乳化機進行改裝,我們將三級變更為一級,然后在乳化頭上面加配了膠體磨磨頭,使物料可以先經(jīng)過膠體磨細化物料,然后再經(jīng)過乳化機將物料分散乳化均質(zhì)。

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  • GMSD2000/4氧化鋯漿料超高速剪切分散機
    氧化鋯漿料超高速剪切分散機

    氧化鋯漿料超高速剪切分散機的定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm,而普通乳化機一般為0.5-0.7mm,SGN定轉(zhuǎn)子更加精密,對于物料的細化效果更好。另外,SGN乳化機配置三組定轉(zhuǎn)子,物料通過工作腔體,相當(dāng)于被剪切處理了3遍,乳化分散均質(zhì)更*。

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  • GMSD2000/4德國氧化鋯漿料高剪切分散機
    德國氧化鋯漿料高剪切分散機

    德國氧化鋯漿料高剪切分散機的定轉(zhuǎn)子間隙一般為0.2-0.3mm,而普通乳化機一般為0.5-0.7mm,SGN定轉(zhuǎn)子更加精密,對于物料的細化效果更好。另外,SGN乳化機配置三組定轉(zhuǎn)子,物料通過工作腔體,相當(dāng)于被剪切處理了3遍,乳化分散均質(zhì)更*。

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